第一千一百五十八章 光刻机 (第1/2页)
　　
　　段云这次来日本，虽然所有的住宿餐饮全部由日方负责接待，但是段云还是提前兑换出了30万美元，以备不时之需。
　　
　　当天晚上，段云一直思考到很晚才睡着，那些带着几分不安和焦虑。
　　
　　而在另一侧房间的李芸，也同样到很晚才睡着的，和段云分开后，她一直都坐在房间靠窗的沙发上，看着窗外璀璨夺目的东京夜景，内心则是满满的兴奋和激动……
　　
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　　第2天一早，东芝派车把段云接到了位于东京市郊的芯片工厂，而这是接待他们的，则正是上次来华考察的田中信一。
　　
　　看到段云之后，田中也表现的非常热情，领他到东芝的芯片工厂进行了参观。
　　
　　一直以来，日本的芯片产业由6家巨型电子公司做掌控，其中包括：日本电器，富士通，日立，东芝，三菱电机，和冲电器组成，他们直接从政府得到资助，用于提高日本高科技行业的技术。
　　
　　这些公司不仅生产芯片还生产电子设备，不过在80年代的时候，这些公司的年营业额收入中只有7%来自芯片的销售，而在这几家企业中，东芝公司的占比稍高一些，能达到13%左右。
　　
　　在田中信一的带领下，段云和李芸进入了生产车间后，立刻就被工作人员安排换上了防尘服。
　　
　　段云的天音电子厂也有无尘车间，但是和东芝公司的无尘车间相比，相差了不止一个等级，这个车间的密封度非常高，工人进入车间的时候不仅要穿上全套的防尘服，而且还要进行全身的清洗和消毒。
　　
　　而进入生产车间内过后，里面的情况也让段云和李芸到了震撼。
　　
　　所有的工人都在有条不紊的工作着，里面的机器看起来非常的先进和精密，偌大的车间只有100多名工人，但根据田中信一的介绍，这个车间年产芯片能达到惊人的500万枚。
　　
　　芯片生产是个非常精密复杂的过程，车间里的每样设备动辄几百万，甚至上千万美元，投入是相当巨大的。
　　
　　另外生产芯片的机器主要有光刻机，等离子刻蚀刻机，离子注入机，单晶炉，晶圆划片机，晶片减薄机，氧化炉，低压化学气沉淀积系统，磁控溅射台，化学机械研磨机，引线键合机，以及探针测试台等等。
　　
　　这些设备都是当前国际芯片产业最先进的设备，而最为后世人所熟知的芯片生产设备，就当属光刻机了。
　　
　　光刻机也叫做激光雕刻机，是一种专门用来制造微小电子元件的设备，至于这个“微小”要微小到什么程度呢？就拿当今世界上最流行的芯片工艺来说，7nm工艺大概要求大概是人类头发丝的万分之一，可以想象这其中的技术有多难了。
　　
　　我国实际上也进行过光刻机的研发，并且这件事要追溯到半个世纪以前的60年代。当时，我国的专家们就已经研发出了65型接触式光刻机，而当时荷兰ASML公司还要过5年才成立，说来也是讽刺，既然我国当时领先了荷兰ASML五年，后来却一落千尺，远远落后世界水平。
　　
　　原来在80年代，我国光刻机技术出现了一次“滑铁卢”，不知道是科研资金不够还是“飘了”，我国科研人员甚至一度放弃了光刻机的研究，并且倡导从国外进口。可能当时的人没能考虑到进口的弊端，于是自研光刻机的事就一直被搁置了起来，就连前面20年的研究成果，也都付诸东流了。
　　
　　也许是中国半导体行业的不景气，就连最后坚守在光刻机行业的武汉三厂最终也选择了转行，并卖起了零食，后来，直到台湾台积电公司开发出了193nm光刻机，国人才终于顿悟，原来直至今日，我国光刻机还是依靠进口。
　　
　　通过田中信一的询问，目前东芝电子厂已经可以生产4~5英寸圆晶，0.9微米级别的芯片。
　　
　　听到田中的介绍，段云内心有些暗暗吃惊。
　　
　　其实早在来日本之前，段云对国内目前的芯片产业技术情况已经有了比较全面的了解。
　　
　　1986年，电子工业部在厦门召开集成电路发展战略研讨会，提出“七五”（1986—1990年）期间我国集成电路技术的“531”发展战略，即普及推广以742厂为基点的5微米技术，同时开发3微米技术，攻关1微米技术。
　　
　　但实际上，一直到1993年的时候，国内才开发出5英寸，三微米技术，而这比起日本，已经整整相差了15年以上。
　　
　　
　　
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